领光源研究所的140多名研发人员,经过近3年的潜心研究,在1999年7月就掌握了浸没式光刻系统技术,研发成功全球第一台65nm制程工艺的浸没式光刻机试验机,避免刺激美国,秘而不宣,到去年6月17日才公开。
从1999年8月开始立项,bsec投资1亿元,邓国辉和钱富强带领光刻机光源研究所...
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